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2015年4月16日 通过对光学镜片在平面行星式研磨加工过程中的运动规律进行分析,建立了... 光学镜片平面行星式研磨加工关键技术研究 - 道客巴巴2015年4月16日 通过对光学镜片在平面行星式研磨加工过程中的运动规律进行分析,建立了...
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了解更多行星式平面研磨加工技术流程, 机械制造 边培莹 行星式双平面多工件研磨研磨技术成为精密加工技术中的一种 .在 式研磨运动提高企业竞争 图7 基本GA算法的迭代过程 力,研磨、 行星式平面研磨加工技术流程行星式平面研磨加工技术流程, 机械制造 边培莹 行星式双平面多工件研磨研磨技术成为精密加工技术中的一种 .在 式研磨运动提高企业竞争 图7 基本GA算法的迭代过程 力,研磨、
了解更多摘要:. 行星式平面研磨机适用于研磨各种工件的平面,光洁度可达到10,平面对孔中心的振摆量可在 0.005/100毫米以内,平面平直度,符合0级刀口尺,在阳光下,无隙缝。. 不仅保证了精 行星式平面研磨机 - 百度学术摘要:. 行星式平面研磨机适用于研磨各种工件的平面,光洁度可达到10,平面对孔中心的振摆量可在 0.005/100毫米以内,平面平直度,符合0级刀口尺,在阳光下,无隙缝。. 不仅保证了精
了解更多2020年9月25日 本发明涉及精密加工领域,特别涉及一种平面光学元件行星式研磨装置及研磨方法。 背景技术: 光学玻璃具有高强度、高硬度、高耐磨性等优异性能,被广泛应用 一种平面光学元件行星式研磨装置及研磨方法与流程2020年9月25日 本发明涉及精密加工领域,特别涉及一种平面光学元件行星式研磨装置及研磨方法。 背景技术: 光学玻璃具有高强度、高硬度、高耐磨性等优异性能,被广泛应用
了解更多摘要:. 分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理. 从节点,节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下工件与研磨盘相对于假想系杆的两个绕定轴的回转运动,根 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 - 百度学术摘要:. 分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理. 从节点,节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下工件与研磨盘相对于假想系杆的两个绕定轴的回转运动,根
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了解更多2011年4月27日 行星式球磨仪. RETSCH创新的行星式球磨仪可以在短时间内将样品研磨至纳米级别,并且保证研磨结果具有可重复性。 能应用在普通常用样品、 胶体研磨、新型材 使用行星式球磨仪进行 粉碎和均相化处理2011年4月27日 行星式球磨仪. RETSCH创新的行星式球磨仪可以在短时间内将样品研磨至纳米级别,并且保证研磨结果具有可重复性。 能应用在普通常用样品、 胶体研磨、新型材
了解更多首页/ 行星式平面研磨加工技术流程 行星式精密球体效研磨加工机理与工艺研究.pdf文档全文免费阅读、。精密轴承球的研磨加工技术已引起了众多学者的关注,提出了许多新的研磨方式和加工工。本文提出了一种基于平面研磨的精密轴承球的研磨方法―― ... 行星式平面研磨加工技术流程_上海破碎生产线首页/ 行星式平面研磨加工技术流程 行星式精密球体效研磨加工机理与工艺研究.pdf文档全文免费阅读、。精密轴承球的研磨加工技术已引起了众多学者的关注,提出了许多新的研磨方式和加工工。本文提出了一种基于平面研磨的精密轴承球的研磨方法―― ...
了解更多2024年4月19日 行星式双面研磨可获得高平整度平面和良好的工件厚度一致性。其工作原理涉及行星运动和磨粒轨迹,对加工精度和表面质量有重要影响。此技术解决了传统研磨的缺点,提高了加工效率和质量,降低了成本,推动了研磨技术的实用化。 行星式双面研磨的加工原理和重要意义2024年4月19日 行星式双面研磨可获得高平整度平面和良好的工件厚度一致性。其工作原理涉及行星运动和磨粒轨迹,对加工精度和表面质量有重要影响。此技术解决了传统研磨的缺点,提高了加工效率和质量,降低了成本,推动了研磨技术的实用化。
了解更多2019年12月12日 国省代号:. CN610113. 摘要:. 一种行星式双平面研磨机,包括机架,主轴,锥齿轮组,下磨盘,上磨盘和行星轮系;主轴通过轴承设置在机架上;上磨盘通过键连接设置在主轴的上端,上磨盘下方的主轴上设置有锥齿轮组,锥齿轮组的一端与主轴固定连接,另一端与主轴 一种行星式双平面研磨机 - 百度学术2019年12月12日 国省代号:. CN610113. 摘要:. 一种行星式双平面研磨机,包括机架,主轴,锥齿轮组,下磨盘,上磨盘和行星轮系;主轴通过轴承设置在机架上;上磨盘通过键连接设置在主轴的上端,上磨盘下方的主轴上设置有锥齿轮组,锥齿轮组的一端与主轴固定连接,另一端与主轴
了解更多2015年1月16日 为此,国内外诸多学者提出了不同的研 磨方法,并取得了一定的成果。但这些加工方法或由于加工精度、加 工效率不高,或由于机构和控制较复杂,难以应用于批量化生产。 本文提出了一种采用平面研磨盘研磨球体的加工方法——行星式 精密球体研磨。 行星式精密球体研磨加工机理与工艺的研究 - 豆丁网2015年1月16日 为此,国内外诸多学者提出了不同的研 磨方法,并取得了一定的成果。但这些加工方法或由于加工精度、加 工效率不高,或由于机构和控制较复杂,难以应用于批量化生产。 本文提出了一种采用平面研磨盘研磨球体的加工方法——行星式 精密球体研磨。
了解更多2015年4月16日 E‐mail:giampaoloqi@gmail.com光学镜片平面行星式研磨加工关键技术 研究祁小苑,李大琪,陈 勇,鲁卫国(中国航空工业西安飞行自动控制研究所,陕西西安710065)摘 要:在平面行星式研磨加工过程中,研磨盘磨损的均匀性与光学镜片的研磨 ... 光学镜片平面行星式研磨加工关键技术研究 - 道客巴巴2015年4月16日 E‐mail:giampaoloqi@gmail.com光学镜片平面行星式研磨加工关键技术 研究祁小苑,李大琪,陈 勇,鲁卫国(中国航空工业西安飞行自动控制研究所,陕西西安710065)摘 要:在平面行星式研磨加工过程中,研磨盘磨损的均匀性与光学镜片的研磨 ...
了解更多2015年1月10日 行星式双面研磨轨迹均匀性研究*. 杨金双1,朱祥龙2. (1.中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川绵阳 621900; 2.大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室,辽宁大连 116024) 蓝宝石 (α-Al2O3)是一种机光电性能优良的功能晶体材料,在半导体和光电子等 行星式双面研磨轨迹均匀性研究*_参考网2015年1月10日 行星式双面研磨轨迹均匀性研究*. 杨金双1,朱祥龙2. (1.中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川绵阳 621900; 2.大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室,辽宁大连 116024) 蓝宝石 (α-Al2O3)是一种机光电性能优良的功能晶体材料,在半导体和光电子等
了解更多2020年9月25日 本发明涉及精密加工领域,特别涉及一种平面光学元件行星式研磨装置及研磨方法。背景技术光学玻璃具有高强度、高硬度、高耐磨性等优异性能,被广泛应用于电子、机械等国防、民用领域中。光学玻璃从毛坯到成型经过磨削、研磨、抛光、镀膜等工序。其中研磨作为磨削和抛光之间的一道工序起 ... 一种平面光学元件行星式研磨装置及研磨方法与流程2020年9月25日 本发明涉及精密加工领域,特别涉及一种平面光学元件行星式研磨装置及研磨方法。背景技术光学玻璃具有高强度、高硬度、高耐磨性等优异性能,被广泛应用于电子、机械等国防、民用领域中。光学玻璃从毛坯到成型经过磨削、研磨、抛光、镀膜等工序。其中研磨作为磨削和抛光之间的一道工序起 ...
了解更多2020年9月25日 本发明涉及精密加工领域,特别涉及一种平面光学元件行星式研磨装置及研磨方法。背景技术光学玻璃具有高强度、高硬度、高耐磨性等优异性能,被广泛应用于电子、机械等国防、民用领域中。光学玻璃从毛坯到成型经过磨削、研磨、抛光、镀膜等工序。其中研磨作为磨削和抛光之间的一道工序起 ... 一种平面光学元件行星式研磨装置及研磨方法与流程2020年9月25日 本发明涉及精密加工领域,特别涉及一种平面光学元件行星式研磨装置及研磨方法。背景技术光学玻璃具有高强度、高硬度、高耐磨性等优异性能,被广泛应用于电子、机械等国防、民用领域中。光学玻璃从毛坯到成型经过磨削、研磨、抛光、镀膜等工序。其中研磨作为磨削和抛光之间的一道工序起 ...
了解更多行星式双平面多工件研磨盘设计_边培莹. 来提高研磨精度和效率的一种研磨方式 。. 以实现多工件双平面同时研磨为需求 , 设计了对其 运动轨迹做了具体分析 , 根据加工要求设计出具体的行星式研磨盘结构 , 并进一步对该研磨盘 进行了运动几何学仿真以 ... 行星式双平面多工件研磨盘设计_边培莹 - 百度文库行星式双平面多工件研磨盘设计_边培莹. 来提高研磨精度和效率的一种研磨方式 。. 以实现多工件双平面同时研磨为需求 , 设计了对其 运动轨迹做了具体分析 , 根据加工要求设计出具体的行星式研磨盘结构 , 并进一步对该研磨盘 进行了运动几何学仿真以 ...
了解更多2015年3月7日 摘要研磨是一种重要的精密和超精密加工方法,它是利用磨具通过磨料作用于工件表面,进行微量加工的过程。研磨加工可以得到很高的尺寸精度和形状精度,甚至可以达到加工精度的极限。本设计采用现代设计方法学为指导,给出了圆柱端面研磨机的黑箱模型和整机功能的形态学矩阵,依据形态学 ... 平面研磨机设计(毕业论文doc) - 道客巴巴2015年3月7日 摘要研磨是一种重要的精密和超精密加工方法,它是利用磨具通过磨料作用于工件表面,进行微量加工的过程。研磨加工可以得到很高的尺寸精度和形状精度,甚至可以达到加工精度的极限。本设计采用现代设计方法学为指导,给出了圆柱端面研磨机的黑箱模型和整机功能的形态学矩阵,依据形态学 ...
了解更多2011-4-191.2.2 平面精密加工 以上提到的這幾種加工方法加工精度相對較低,表面質量要求較高 時,必須使用磨削、研磨、珩磨、超級光磨、拋光等精密加工技術。根據 加工機理的不同,表面精密加工可以分爲以下幾類: 第一章 緒論 .精密切削加工。 行星式平面研磨加工技術流程2011-4-191.2.2 平面精密加工 以上提到的這幾種加工方法加工精度相對較低,表面質量要求較高 時,必須使用磨削、研磨、珩磨、超級光磨、拋光等精密加工技術。根據 加工機理的不同,表面精密加工可以分爲以下幾類: 第一章 緒論 .精密切削加工。
了解更多2015年1月13日 第38卷第6期机械工程学报v。1.38No6基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析吴宏基曹利新刘健大连理工大学机械工程学院大连11604摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点、节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了 ... 基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析 - 道客巴巴2015年1月13日 第38卷第6期机械工程学报v。1.38No6基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析吴宏基曹利新刘健大连理工大学机械工程学院大连11604摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点、节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了 ...
了解更多2015年1月20日 超精密双面抛光加工是应用化学机械抛光 (CMP)技术,靠工件、磨粒、抛光液及抛光盘的力学作用,在工件的抛光过程中,产生局部的高温和高压,从而使直接的物理化学变化直接发生在工件与磨粒、抛光液及抛光盘之间,导致工件的表面产生物理化学变化的反 超精密双面抛光的加工原理_海德研磨2015年1月20日 超精密双面抛光加工是应用化学机械抛光 (CMP)技术,靠工件、磨粒、抛光液及抛光盘的力学作用,在工件的抛光过程中,产生局部的高温和高压,从而使直接的物理化学变化直接发生在工件与磨粒、抛光液及抛光盘之间,导致工件的表面产生物理化学变化的反
了解更多2016年4月15日 光学镜片平面行星式研磨加工关键技术研究.docx 2016-04-15上传 暂无简介 文档格式:.docx 文档大小: 1.07M 文档页数: 5 页 顶 /踩数: 0 / 0 收藏人数: 0 评论次数: 0 文档热度: 文档分类: 待分类 ... 光学镜片平面行星式研磨加工关键技术研究 - 豆丁网2016年4月15日 光学镜片平面行星式研磨加工关键技术研究.docx 2016-04-15上传 暂无简介 文档格式:.docx 文档大小: 1.07M 文档页数: 5 页 顶 /踩数: 0 / 0 收藏人数: 0 评论次数: 0 文档热度: 文档分类: 待分类 ...
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了解更多2022年5月11日 研磨按照机械运动形式的不同可分为旋转式磨片法、行星式磨片法和平面磨片法等。按表面加工的特点不同又可分为单面磨片法和双面磨片法。所谓单面磨片法,就是对一面进行研磨,双面磨片法就是两面都要研磨。目前使用得最普遍的是行星式磨片法。 硅片研磨加工是个咋样的流程? - 闪德半导体2022年5月11日 研磨按照机械运动形式的不同可分为旋转式磨片法、行星式磨片法和平面磨片法等。按表面加工的特点不同又可分为单面磨片法和双面磨片法。所谓单面磨片法,就是对一面进行研磨,双面磨片法就是两面都要研磨。目前使用得最普遍的是行星式磨片法。
了解更多行星式平面研磨机适用于研磨各种工件的平面,光洁度可达到10,平面对孔中心的振摆量可在 0.005/100毫米以内,平面平直度,符合0级刀口尺,在阳光下,无隙缝。不仅保证了精度要求,同时提高效率7倍以上,降低了劳动强度,以机械代替了手工操作。 行星式平面研磨机 - 百度学术行星式平面研磨机适用于研磨各种工件的平面,光洁度可达到10,平面对孔中心的振摆量可在 0.005/100毫米以内,平面平直度,符合0级刀口尺,在阳光下,无隙缝。不仅保证了精度要求,同时提高效率7倍以上,降低了劳动强度,以机械代替了手工操作。
了解更多行星式双面研磨是蓝宝石基片平面加工的重要手段,加工过程中磨粒轨迹的均匀性对工件的加工精度和表面质量有着重要的影响. 通过运动学分析建立了双面研磨磨粒轨迹方程和速度方程,提出一种基于Matlab离散统计的磨粒轨迹均匀性定量评价方法,并求取设定参数下双面研磨轨迹分布均匀性的方差值. 行星式双面研磨轨迹均匀性研究_百度文库行星式双面研磨是蓝宝石基片平面加工的重要手段,加工过程中磨粒轨迹的均匀性对工件的加工精度和表面质量有着重要的影响. 通过运动学分析建立了双面研磨磨粒轨迹方程和速度方程,提出一种基于Matlab离散统计的磨粒轨迹均匀性定量评价方法,并求取设定参数下双面研磨轨迹分布均匀性的方差值.
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